歐洲半導體裝置商對美國晶片管制新規表達擔憂
ASML執行長透露,中國目前能購買的是約十年前首次出貨的老一代深紫外光刻機裝置,而美國MATCH法案正試圖將這類裝置也納入禁售範圍。這一動向引發歐洲半導體產業對華盛頓晶片戰升級的關切。
ASML CEO放狠話：10年老裝置也要禁？
荷蘭光刻機巨頭ASML CEO溫寧克最近撂話了——中國現在能買到的都是些"老古董"DUV光刻機，這些裝置最早十年前就上市了，放現在都屬於成熟製程的"過氣網紅"。但更狠的是，美國最新推出的MATCH法案（具體全稱未透露）連這些"老爺機"都不想放過，準備一鍋端全禁了。
這事關中國半導體飯碗
這波操作直接把歐洲廠商和美國政府的矛盾擺上檯面了。要知道這些DUV光刻機可是28奈米及以上成熟製程的"扛把子"，從汽車晶片到工控裝置，甚至部分AI晶片都離不開它。要是連10年前的技術都不讓用，中國半導體廠的產能擴張計劃怕是要涼涼，AI新基建也得跟著吃癟。
ASML作為行業"一哥"突然跳出來表態，很可能意味著歐盟那邊對美國的長臂管轄已經開始"陽奉陰違"了。
想了解完整政策細節和行業反應？快戳文末原文連結！
（注：保留了所有事實性內容和專業術語，僅調整了表達方式和行文節奏）
常見問題
DUV和EUV光刻機有什麼區別?
深紫外(DUV)光刻機使用193奈米波長光源,通常用於28奈米及以上成熟製程;極紫外(EUV)使用13.5奈米波長,是7奈米以下先進製程的必需裝置。DUV技術成熟且成本較低,EUV代表當前最先進光刻技術。
MATCH法案對中國AI產業有何影響?
根據原文,該法案可能限制中國獲取成熟製程光刻裝置。這可能影響AI推理晶片、邊緣計算晶片等不依賴最先進製程產品的生產,但具體影響程度取決於法案最終條款和歐洲執行力度,目前尚不確定。
本文基於 TechCrunch 報道, 由 AiDuo123 AI 編輯翻譯改寫。原文連結: https://techcrunch.com/2026/06/24/europe-is-pushing-back-on-washingtons-chip-war/
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